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2019年中国稀土行业协会抛光材料分会年会 暨中国稀土抛光材料产业发展论坛成功召开

2019-11-13 14:51| 发布者: admin| 查看: 1118| 评论: 0

摘要: 2019年11月6日,2019年中国稀土行业协会抛光材料分会年会暨中国稀土抛光材料产业发展论坛在广州成功召开。

2019年中国稀土行业协会抛光材料分会年会

暨中国稀土抛光材料产业发展论坛成功召开

2019年11月6日,2019年中国稀土行业协会抛光材料分会年会暨中国稀土抛光材料产业发展论坛在广州成功召开,本次会议以“创新驱动未来,合作实现共赢”为主题,来自抛光材料分会会员企业代表、下游应用及配套产业界代表以及从事稀土抛光材料研发与应用的专家等90余人参加了此次会议。广东省工信厅材料工业处副处长任立文,中国稀土行业协会秘书长杨文浩、常务副秘书长王晓铁,广东省广晟资产经营有限公司副总经理王如海,广晟有色金属股份有限公司副总经理张喜刚,广东省稀土行业协会副会长兼秘书长李国锋,抛光材料分会会长、包头天骄清美稀土抛光粉有限公司总经理黄绍东,抛光材料分会秘书长、上海华明高纳稀土新材料有限公司董事长高玮及副会长单位和会员单位代表出席了会议。

本次年会由中国稀土行业协会抛光材料分会主办,广晟有色金属股份有限公司、广东省稀土产业集团有限公司、广东省稀土行业协会、洛阳纳微机电设备有限公司、黄冈市中联窑炉设备有限公司、淄博硅元窑炉工程有限公司、密友集团有限公司、惠州市乐惠新材料科技有限公司给予会议大力支持。会议由抛光材料分会秘书长、上海华明高纳稀土新材料有限公司董事长高玮主持。

广东省工信厅材料工业处副处长任立文、广东省广晟资产经营有限公司副总经理王如海分别致辞,向稀土抛光材料分会年会顺利召开表示祝贺,向来自全国各地的会员代表表示欢迎和问候,并向大家介绍、分享了广东稀土行业企业发展进步的相关情况。

中国稀土行业协会秘书长杨文浩致辞,他表示,习近平总书记5月20日在江西赣州考察稀土产业时的讲话,从战略全局的高度,为我国稀土资源的绿色、高效开发利用和稀土行业、产业、企业高质量发展指明了方向,提出了更高的要求。稀土行业要认真学习、贯彻和落实习近平总书记的重要指示精神,坚持创新、协调、绿色、开放、共享新发展理念,坚持以科技创新为核心的创新驱动发展,充分发挥企业在科技创新中的主体作用,搭建平台,整合利用多种资源,推动产学研用融合创新,促进先进技术使用推广、成果转化,不断调整优化稀土行业的产业结构、产品结构,实现我国稀土行业的高质量发展,维护我国稀土在全球的战略地位。我国具有显著的稀土资源优势,品种规格齐全,储量大,经过多年的不懈努力,我国稀土行业已形成了资源优势、冶炼分离优势、稀土功能材料优势,稀土行业的发展实践,使我们充分认识到,我国稀土行业的发展的根本出路在于绿色集约、科学高效开发利用稀土资源,在于依靠科技创新的创新驱动发展,在于稀土产业链的延伸、附加值提高等中高端应用产业链的发展,有效把稀土资源优势转化为积极优势,维护我国稀土在全球的战略地位。稀土抛光材料是重要的稀土功能材料,随着科技进步和相关新兴产业发展,稀土抛光材料的优异性能,在相关领域得到充分体现。稀土抛光材料所使用的稀土元素主要是高丰度的La、Ce稀土元素,无疑对稀土资源的综合开发利用有积极的促进作用,发展好稀土抛光材料,对稀土行业的健康发展和相关新兴产业的发展,具有重要意义。

会上,抛光材料分会会长黄绍东作了中国稀土抛光材料的产业现状与发展趋势的报告。对稀土抛光材料应用现状、市场现状、稀土行业原料及应用情况进行了全面分析,并对2020年市场情况做了预测。黄绍东会长的报告援引大量的数据,从上游行业到抛光材料行业再到下游应用行业,从国际厂家到国内厂家,系统全面分析了抛光材料行业各方面的发展情况。另外,黄绍东会长还简要介绍了2018-2019年分会秘书处所做的工作,公布了2018年以来分会的财务状况,提出了2020年的工作计划。

本次会议还特别邀请了郑州工业大学邹文俊教授、北京工业大学材料学院梅燕教授、南昌大学李永绣教授、国家纳米科学中心王奇博士、郑州三磨所王军涛工程师等5位专家学者进行学术交流。五位专家就稀土抛光粉、抛光液、精密磨料等方面做了高水平的报告。

邹文俊教授的报告从超硬刀具超精密切削加工、单晶硅晶元的精密加工、航空发动机零件高效精密磨削、高铁精密磨削加工、汽车关键零部件的精密磨削、手机玻璃面板的研磨抛光等方面详细介绍了精密研磨抛光技术的发展及应用。

李永绣教授从抛光与研磨区别、研磨抛光机理、化学机械抛光、抛光浆料调配等方面介绍了机械研磨、化学抛光与化学机械抛光技术取得的新进展,及南昌大学团队近期所做的工作。

梅燕教授的报告从化学机械抛光机原理、CMP抛光液的组成分类及制备方法、CMP抛光液的抛光效果及表征、CMP抛光液的应用等方面介绍了化学机械抛光的应用情况,将化学机械抛光与传统抛光技术进行比较,认为CMP技术作为新一代超精密表面制造方法之一,是目前最好的实现全局平面化的工艺技术,在集成电路(IC)、半导体基片、计算机磁头、硬磁盘等超精密表面加工领域都得到大量研究和广泛应用。

王军涛工程师的报告从玻璃抛光轮、玻璃抛光盘、稀土抛光皮等方面介绍了稀土在抛光磨具中的应用。

王奇博士的报告从可控制备、标准物质、国家标准、抛光性能等方面介绍了纳米二氧化铈的可控制备、标准化及其抛光性能。

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